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產(chǎn)品中心表面分析離子源系統(tǒng)GCIB 10SGCIB-10S 離子源系統(tǒng)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)品分類(lèi)
簡(jiǎn)介：
GCIB-10S 離子源系統(tǒng)是一種高性能10千伏氣體團(tuán)簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。
GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實(shí)時(shí)集群大小測(cè)量和內(nèi)置樣本電流成像系統(tǒng)，以幫助您充分利用實(shí)驗(yàn)。
GCIB-10S 離子源系統(tǒng)具有完整的泵送系統(tǒng)和單獨(dú)軟件，是一種栓接式升級(jí)，將集束束濺射的力量引入現(xiàn)有的真空儀器，如XPS、SEM和SIMS。
主要參數(shù)：
| 主要應(yīng)用 | 濺射 |
| 光斑尺寸 | 250 µm |
| 掃描范圍 | 7.5 x 7.5 mm |
| 能耗范圍 | 1 – 10 kV |
| 電流范圍 | 60 nA |
| 法蘭至機(jī)頭長(zhǎng)度 | 143 mm |
| 推薦工作距離 | 50 mm |
| 電源裝置 | 3U x 19’’ rack mountable unit |
| 電源要求 | 110-240VAC 13A 50/60Hz |
| 軟件要求 | PC running Windows 10 or later |
| 集成法蘭規(guī)格 | NW 63 CF |
特點(diǎn):
◇ 10kV氬團(tuán)簇離子源，可選擇Ar1至>Ar3000的團(tuán)簇；
◇ 實(shí)時(shí)集群測(cè)量和調(diào)整；
◇ 采樣電流成像；
◇ 光斑尺寸大，掃描范圍寬，可均勻去除材料；
◇ 易于安裝在許多高真空儀器上；
◇ 單獨(dú)軟件和基于web套接字的API，用于與第三方軟件集成
應(yīng)用技術(shù)：
GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染，而不會(huì)損壞基材， 同時(shí)還可對(duì)有機(jī)物和聚合物等軟材料進(jìn)行無(wú)損傷深度剖析。
右圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數(shù)據(jù)清楚地顯示了單原子Ar1束（紅色）造成的化學(xué)損傷，而光譜在暴露于Ar2000束（藍(lán)色）后幾乎保持不變
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