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真空镀膜机的原理

来源:www.hmwjzs.com 发表时间:2016-11-11

    说来话长,简单点的话就是:阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和二次电子,二次电子飞向衬底基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在衬底上形成薄膜。二次电子在加速飞向衬底的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断地与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后二次电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,
最终沉积在衬底上

  

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